Китай запустил производство ключевого оборудования для чипов — СМИ
Китай начал серийное производство собственных погружных DUV-литографических систем — ключевого оборудования для изготовления новейших микросхем, которое длительное время контролировала нидерландская ASML. Об этом Reuters сообщило осведомленное источник во вторник, 28 июля.
Производство ведет государственная компания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, которая привлекла специалистов из ведущих китайских разработчиков литографического оборудования.
Запуск производства стал очередным шагом Пекина в попытке сократить зависимость от иностранных технологий в полупроводниковой отрасли.
Погружные DUV-литографы используют слой воды между оптикой и кремниевой пластиной. Это позволяет создавать более мелкие элементы. Системы применяют для производства широкого спектра чипов, а с помощью технологии многократного экспонирования — и более сложных полупроводников.
Китайские установки пока не могут конкурировать с продукцией ASML по уровню технологичности. По словам источника, новые системы требуют дополнительного тестирования и далеки от возможностей нидерландских аналогов.
В то же время их внедрение может стать важным резервным вариантом для китайских производителей в случае дальнейшего ужесточения экспортных ограничений Запада.
Ожидается, что в этом году китайское DUV-оборудование получат крупнейшие производители чипов страны, в том числе Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC), Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies.
Китай работает над развитием собственного производства литографических систем после того, как США запретили Пекину доступ к самым современным EUV-системам ASML, тогда как Нидерланды ограничили экспорт части новейшего DUV-оборудования.
Однако, создать несколько рабочих систем недостаточно — для конкуренции нужно обеспечить стабильную работу оборудования, высокую производительность и пригодность к массовому производству.
| Комментарии (0) |